Atomic layer deposition (ALD) : fundamentals, characteristics and industrial applications / Jeannie Valdez, editor.

Contributor(s):

Material type: Text

TextLanguage: English Series: Chemical engineering methods and technologyPublication details: New York : "Nova science publishers ", 2015.Description: 175 pages : ilISBN:

Subject(s):

Tags from this library: No tags from this library for this title. Log in to add tags.

Holdings
Item type	Current library	Call number	Copy number	Status	Date due	Barcode
წიგნები / Books	ცენტრალური ბიბლიოთეკა / Central library ტექნიკური დარ. / Techn. hall	541.138 / 1 (Browse shelf(Opens below))	K-16333	Available		2019-6064

Includes bibliographical references and index.

Price 50 l.

There are no comments on this title.

to post a comment.

საქართველოს ტექნიკური უნივერსიტეტის ნიკო მუსხელიშვილის სახელობის საუნივერსიტეტო ბიბლიოთეკა